열처리사업부

라디칼 질화

라디칼 질화란?

라디칼질화는 낮은 전압의 플라즈마 분위기에서 반응성이 높은 질소 활성종(Radical)을 이용한 질화법입니다. H2, NH3가스를 플라즈마 분해하여 생성된 NH+활성종(Radical)를 사용함과 동시에, 전류 밀도를 정밀하게 조정하여 질화층 및 열후 표면 조도제어가 가능합니다.

라디칼 질화의 특성

– 처리후 우수한 표면조도, 고경도의 확산층만의 선택생성
– 표면 화합물층의 제어 가능
– 스크레치, 열균열(Heat Crack)발생 억제
– 금형수명 향상
– 좁은 틈새 및 복잡 형상의 균일한 질화처리 가능
– 반도체용 정밀 금형에 적용가능